鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應(yīng)用廣泛的真空設(shè)備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現(xiàn)。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成。真空設(shè)備也分好多類型和型號(hào)，種類、用途不一樣，其型號(hào)也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。
鍍膜儀的基本技術(shù)要求說明：
1.設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T的規(guī)定。
2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測(cè)量規(guī)管，分別測(cè)量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)測(cè)量造成干擾時(shí)，應(yīng)在測(cè)量口處安裝電場(chǎng)屏蔽裝置。
3.如果設(shè)備使用的主泵為擴(kuò)散泵時(shí)，應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱。
4.設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。
5.離子鍍沉積源的設(shè)計(jì)應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6.合理布置加熱裝置，一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應(yīng)使被鍍工件溫升均勻一致。
5.工件架應(yīng)與真空室體絕緣，工件架的設(shè)計(jì)應(yīng)使工件膜層均勻。
8.離子鍍膜儀一般應(yīng)具有工件負(fù)偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應(yīng)具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。
9.主要環(huán)境條件：
①環(huán)境溫度：10-30℃；
②相對(duì)濕度：≤75%；
③冷卻水進(jìn)水溫度：≤25℃；
④供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；
⑤設(shè)備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應(yīng)有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。
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